-
Al2O3 સિરામિક વેફર ચકની કસ્ટમાઇઝ્ડ પ્રોસેસિંગ
ઠંડા આઇસોસ્ટેટિક પ્રેસિંગ દ્વારા બનાવવામાં આવે છે અને ઉચ્ચ તાપમાન હેઠળ સિન્ટર કરવામાં આવે છે, પછી ચોકસાઇથી મશીન અને પોલિશ્ડ કરવામાં આવે છે, સિરામિક સ્પેરપાર્ટ્સ સેમિકન્ડક્ટર સાધનોની કોઈપણ કડક જરૂરિયાતોને પૂર્ણ કરી શકે છે જેમાં વસ્ત્રો પ્રતિકાર, કાટ પ્રતિકાર, ઓછા થર્મલ વિસ્તરણ અને ઇન્સ્યુલેશનની સુવિધાઓ છે. સિરામિક્સ ઘણા પ્રકારના સેમિકન્ડક્ટર ઉત્પાદન સાધનોમાં લાંબા સમય સુધી ઉચ્ચ તાપમાન, વેક્યુમ અથવા કાટ લાગતા ગેસની સ્થિતિમાં કામ કરી શકે છે.
ઉચ્ચ-શુદ્ધતાવાળા એલ્યુમિના પાવડરમાંથી બનાવેલ, કોલ્ડ આઇસોસ્ટેટિક પ્રેસિંગ, ઉચ્ચ તાપમાન સિન્ટરિંગ અને ચોકસાઇ ફિનિશિંગ દ્વારા પ્રક્રિયા કરાયેલ, તે પરિમાણ સહિષ્ણુતા ±0.001 મીમી, સપાટી પૂર્ણાહુતિ Ra 0.1, તાપમાન પ્રતિકાર 1600℃ સુધી પહોંચી શકે છે.
-
ST.CERA કસ્ટમાઇઝ્ડ સેમિકન્ડક્ટર ઇક્વિપમેન્ટ સિરામિક પ્લેટ
ઠંડા આઇસોસ્ટેટિક પ્રેસિંગ દ્વારા બનાવવામાં આવે છે અને ઉચ્ચ તાપમાન હેઠળ સિન્ટર કરવામાં આવે છે, પછી ચોકસાઇથી મશીન અને પોલિશ્ડ કરવામાં આવે છે, સિરામિક સ્પેરપાર્ટ્સ સેમિકન્ડક્ટર સાધનોની કોઈપણ કડક જરૂરિયાતોને પૂર્ણ કરી શકે છે જેમાં વસ્ત્રો પ્રતિકાર, કાટ પ્રતિકાર, ઓછા થર્મલ વિસ્તરણ અને ઇન્સ્યુલેશનની સુવિધાઓ છે. સિરામિક્સ ઘણા પ્રકારના સેમિકન્ડક્ટર ઉત્પાદન સાધનોમાં લાંબા સમય સુધી ઉચ્ચ તાપમાન, વેક્યુમ અથવા કાટ લાગતા ગેસની સ્થિતિમાં કામ કરી શકે છે.
ઉચ્ચ-શુદ્ધતાવાળા એલ્યુમિના પાવડરમાંથી બનાવેલ, કોલ્ડ આઇસોસ્ટેટિક પ્રેસિંગ, ઉચ્ચ તાપમાન સિન્ટરિંગ અને ચોકસાઇ ફિનિશિંગ દ્વારા પ્રક્રિયા કરાયેલ, તે પરિમાણ સહિષ્ણુતા ±0.001 મીમી, સપાટી પૂર્ણાહુતિ Ra 0.1, તાપમાન પ્રતિકાર 1600℃ સુધી પહોંચી શકે છે.
-
૩૦૦ મીમી વેફર પ્રોસેસિંગ માટે ૧૨-ઇંચ એલ્યુમિના વેક્યુમ ચક
સેન્ટ સેરાનું ૧૨-ઇંચનું વેક્યુમ ચક ૩૦૦ મીમી વેફર હેન્ડલિંગ માટે ૯૯.૮% ઉચ્ચ-શુદ્ધતા એલ્યુમિના (Al₂O₃) માંથી ચોકસાઇ-એન્જિનિયર્ડ છે. ચકમાં બારીક ખાંચવાળી સપાટી (ખાંચની પહોળાઈ ૦.૫–૧.૦ મીમી, પિચ ૨–૩ મીમી) છે જે સમગ્ર ૩૦૦ મીમી વ્યાસમાં એકસમાન વેક્યુમ વિતરણ સુનિશ્ચિત કરે છે. સપાટતા ૫ μm ની અંદર જાળવવામાં આવે છે, જે ડાઇસિંગ, બેકસાઇડ ગ્રાઇન્ડીંગ અને નિરીક્ષણ દરમિયાન વાર્પ-ફ્રી વેફર ફિક્સેશનને સક્ષમ બનાવે છે. સામગ્રીની ઉચ્ચ ફ્લેક્સરલ તાકાત (૩૬૧ MPa) અને કઠિનતા (૧૬ GPa) વારંવાર વેક્યુમ ચક્ર હેઠળ પણ લાંબા ગાળાની પરિમાણીય સ્થિરતાની ખાતરી આપે છે.
-
સેમિકન્ડક્ટર પ્રોબ સાધનો માટે સિરામિક સ્પેરપાર્ટ્સ
ઠંડા આઇસોસ્ટેટિક પ્રેસિંગ દ્વારા બનાવવામાં આવે છે અને ઉચ્ચ તાપમાન હેઠળ સિન્ટર કરવામાં આવે છે, પછી ચોકસાઇથી મશીન અને પોલિશ્ડ કરવામાં આવે છે, સિરામિક સ્પેરપાર્ટ્સ સેમિકન્ડક્ટર સાધનોની કોઈપણ કડક જરૂરિયાતોને પૂર્ણ કરી શકે છે જેમાં વસ્ત્રો પ્રતિકાર, કાટ પ્રતિકાર, ઓછા થર્મલ વિસ્તરણ અને ઇન્સ્યુલેશનની સુવિધાઓ છે. સિરામિક્સ ઘણા પ્રકારના સેમિકન્ડક્ટર ઉત્પાદન સાધનોમાં લાંબા સમય સુધી ઉચ્ચ તાપમાન, વેક્યુમ અથવા કાટ લાગતા ગેસની સ્થિતિમાં કામ કરી શકે છે.
ઉચ્ચ-શુદ્ધતાવાળા એલ્યુમિના પાવડરમાંથી બનાવેલ, કોલ્ડ આઇસોસ્ટેટિક પ્રેસિંગ, ઉચ્ચ તાપમાન સિન્ટરિંગ અને ચોકસાઇ ફિનિશિંગ દ્વારા પ્રક્રિયા કરાયેલ, તે પરિમાણ સહિષ્ણુતા ±0.001 મીમી, સપાટી પૂર્ણાહુતિ Ra 0.1, તાપમાન પ્રતિકાર 1600℃ સુધી પહોંચી શકે છે.
-
સિરામિક પ્લેટ સેમિકન્ડક્ટર ઇક્વિપમેન્ટ કેરિયર
ઠંડા આઇસોસ્ટેટિક પ્રેસિંગ દ્વારા બનાવવામાં આવે છે અને ઉચ્ચ તાપમાન હેઠળ સિન્ટર કરવામાં આવે છે, પછી ચોકસાઇથી મશીન અને પોલિશ્ડ કરવામાં આવે છે, સિરામિક સ્પેરપાર્ટ્સ સેમિકન્ડક્ટર સાધનોની કોઈપણ કડક જરૂરિયાતોને પૂર્ણ કરી શકે છે જેમાં વસ્ત્રો પ્રતિકાર, કાટ પ્રતિકાર, ઓછા થર્મલ વિસ્તરણ અને ઇન્સ્યુલેશનની સુવિધાઓ છે. સિરામિક્સ ઘણા પ્રકારના સેમિકન્ડક્ટર ઉત્પાદન સાધનોમાં લાંબા સમય સુધી ઉચ્ચ તાપમાન, વેક્યુમ અથવા કાટ લાગતા ગેસની સ્થિતિમાં કામ કરી શકે છે.
ઉચ્ચ-શુદ્ધતાવાળા એલ્યુમિના પાવડરમાંથી બનાવેલ, કોલ્ડ આઇસોસ્ટેટિક પ્રેસિંગ, ઉચ્ચ તાપમાન સિન્ટરિંગ અને ચોકસાઇ ફિનિશિંગ દ્વારા પ્રક્રિયા કરાયેલ, તે પરિમાણ સહિષ્ણુતા ±0.001 મીમી, સપાટી પૂર્ણાહુતિ Ra 0.1, તાપમાન પ્રતિકાર 1600℃ સુધી પહોંચી શકે છે.
-
સેમિકન્ડક્ટર સાધનો સિરામિક સ્પેરપાર્ટ્સ
ઠંડા આઇસોસ્ટેટિક પ્રેસિંગ દ્વારા બનાવવામાં આવે છે અને ઉચ્ચ તાપમાન હેઠળ સિન્ટર કરવામાં આવે છે, પછી ચોકસાઇથી મશીન અને પોલિશ્ડ કરવામાં આવે છે, સિરામિક સ્પેરપાર્ટ્સ સેમિકન્ડક્ટર સાધનોની કોઈપણ કડક જરૂરિયાતોને પૂર્ણ કરી શકે છે જેમાં વસ્ત્રો પ્રતિકાર, કાટ પ્રતિકાર, ઓછા થર્મલ વિસ્તરણ અને ઇન્સ્યુલેશનની સુવિધાઓ છે. સિરામિક્સ ઘણા પ્રકારના સેમિકન્ડક્ટર ઉત્પાદન સાધનોમાં લાંબા સમય સુધી ઉચ્ચ તાપમાન, વેક્યુમ અથવા કાટ લાગતા ગેસની સ્થિતિમાં કામ કરી શકે છે.
ઉચ્ચ-શુદ્ધતાવાળા એલ્યુમિના પાવડરમાંથી બનાવેલ, કોલ્ડ આઇસોસ્ટેટિક પ્રેસિંગ, ઉચ્ચ તાપમાન સિન્ટરિંગ અને ચોકસાઇ ફિનિશિંગ દ્વારા પ્રક્રિયા કરાયેલ, તે પરિમાણ સહિષ્ણુતા ±0.001 મીમી, સપાટી પૂર્ણાહુતિ Ra 0.1, તાપમાન પ્રતિકાર 1600℃ સુધી પહોંચી શકે છે.
-
ઉચ્ચ-તાપમાન ચેમ્બર સીલિંગ માટે ઉચ્ચ-શુદ્ધતા એલ્યુમિના સિરામિક સીલ રિંગ
સેન્ટ.સેરાની સિરામિક સીલ રિંગ પોલિમર ઓ-રિંગ્સના વિકલ્પ તરીકે ડિઝાઇન કરવામાં આવી છે જે આત્યંતિક વાતાવરણમાં ઇલાસ્ટોમર્સનો નાશ કરે છે. 99.8% ઉચ્ચ-શુદ્ધતા એલ્યુમિના (Al₂O₃) માંથી ઉત્પાદિત, આ કઠોર સીલ રિંગનો ઉપયોગ સ્ટેટિક સીલિંગ એપ્લિકેશન્સમાં થાય છે - સામાન્ય રીતે સોફ્ટ મેટલ અથવા ગ્રેફાઇટ ગાસ્કેટ સાથે જોડી બનાવીને - 800°C સુધીના તાપમાને અને આક્રમક પ્લાઝ્મા અથવા રાસાયણિક વાતાવરણમાં વિશ્વસનીય વેક્યુમ અથવા ગેસ કન્ટેઈનમેન્ટ પ્રદાન કરવા માટે. આ સામગ્રી શૂન્ય આઉટગેસિંગ, ઉચ્ચ સંકુચિત શક્તિ (અંતર્ગત ફ્લેક્સરલ શક્તિ 361 MPa), અને રાસાયણિક જડતા (HF સિવાય હેલોજન, એસિડ અને આલ્કલીસ માટે પ્રતિરોધક) પ્રદાન કરે છે. ચોકસાઇ-લેપ્ડ સીલિંગ સપાટીઓ (સપાટતા ≤5 μm, સપાટીની ખરબચડી Ra ≤0.2 μm) સમાગમ ધાતુ અથવા સિરામિક ઘટકો સાથે લીક-ટાઇટ સંપર્ક સુનિશ્ચિત કરે છે.
-
પ્લાઝ્મા એચ અને સીવીડી સિસ્ટમ્સ માટે ઉચ્ચ-શુદ્ધતા એલ્યુમિના ચેમ્બર ફોકસ રિંગ
સેન્ટ સેરાની ચેમ્બર ફોકસ રિંગ એ પ્લાઝ્મા એચ, સીવીડી અને પીવીડી સેમિકન્ડક્ટર સાધનોમાં ઉપયોગમાં લેવાતો એક મહત્વપૂર્ણ પ્રક્રિયા કીટ ઘટક છે. 99.8% ઉચ્ચ-શુદ્ધતા એલ્યુમિના (Al₂O₃) માંથી ઉત્પાદિત, રિંગ પ્લાઝ્માને મર્યાદિત કરવા અને આયન કોણીય વિતરણને ઑપ્ટિમાઇઝ કરવા માટે વેફર ધારને ઘેરી લે છે, જેનાથી વેફર સપાટી પર એચ એકરૂપતામાં સુધારો થાય છે. આ સામગ્રી અસાધારણ પ્લાઝ્મા પ્રતિકાર, ઉચ્ચ ડાઇલેક્ટ્રિક શક્તિ (15×10⁶ V/m), અને 1600°C સુધી થર્મલ સ્થિરતા પ્રદાન કરે છે, જે આક્રમક ફ્લોરિન- અથવા ક્લોરિન-આધારિત પ્લાઝ્મા વાતાવરણમાં લાંબા ગાળાની વિશ્વસનીયતા સુનિશ્ચિત કરે છે. ચોકસાઇ-ગ્રાઉન્ડ ID/OD અને સપાટતા (≤10 μm) સચોટ વેફર ધાર સ્થિતિને સક્ષમ કરે છે, ધાર ખામીઓ અને કણોનું ઉત્પાદન ઘટાડે છે.
-
સીવીડી / પીવીડી પ્રોસેસ ચેમ્બર માટે ઉચ્ચ-શુદ્ધતા એલ્યુમિના સિરામિક રિંગ
સેન્ટ સેરાની સિરામિક રિંગ ખાસ કરીને CVD (કેમિકલ વેપર ડિપોઝિશન) અને PVD (ફિઝિકલ વેપર ડિપોઝિશન) પ્રોસેસ ચેમ્બરમાં ઉપયોગ માટે ડિઝાઇન કરવામાં આવી છે. 99.8% હાઇ-પ્યુરિટી એલ્યુમિના (Al₂O₃) માંથી ઉત્પાદિત, આ રિંગ પ્લાઝ્માને મર્યાદિત કરવા અને ચેમ્બરની દિવાલોને ધોવાણથી બચાવવા માટે ચેમ્બર લાઇનર, ફોકસ રિંગ અથવા પ્રોસેસ કીટ ઘટક તરીકે કામ કરે છે. આ સામગ્રી ઉત્તમ પ્લાઝ્મા પ્રતિકાર, ઉચ્ચ ડાઇલેક્ટ્રિક શક્તિ (15×10⁶ V/m), અને 1600°C સુધી થર્મલ સ્થિરતા પ્રદાન કરે છે, જે આક્રમક ફ્લોરિન-આધારિત પ્લાઝ્મા વાતાવરણમાં લાંબા સેવા જીવનની ખાતરી કરે છે. ચોક્કસ પરિમાણીય સહિષ્ણુતા (ID/OD પર ±0.05 mm) અને સપાટતા (≤10 μm) સુસંગત વેફર એજ પોઝિશનિંગને સક્ષમ કરે છે, ડિપોઝિશન એકરૂપતામાં સુધારો કરે છે અને કણોનું ઉત્પાદન ઘટાડે છે.
-
વાર્પ્ડ વેફર હેન્ડલિંગ માટે છિદ્રાળુ સિરામિક વેક્યુમ ચક
સેન્ટ સેરાનું છિદ્રાળુ સિરામિક ચક ઉચ્ચ-શુદ્ધતાવાળા એલ્યુમિનાથી બનેલું છે જેમાં 30-45% ની એકસમાન ખુલ્લી છિદ્રાળુતા અને 10 થી 100 μm સુધીના છિદ્ર કદ હોય છે. પરંપરાગત ગ્રુવ્ડ ચકથી વિપરીત, છિદ્રાળુ સપાટી સમગ્ર વેફર બેકસાઇડ પર વિતરિત વેક્યૂમ પ્રદાન કરે છે, જે અસરકારક રીતે વિકૃત, પાતળા અથવા સિંગલેટેડ વેફર્સને ધાર લિફ્ટ-ઓફ અથવા તૂટ્યા વિના પકડી રાખે છે. સૌમ્ય વેક્યૂમ (રિસ્ટ્રિક્ટર દ્વારા એડજસ્ટેબલ) બેકસાઇડ માર્કિંગને પણ અટકાવે છે.
-
પાતળા વેફર હેન્ડલિંગ માટે એલ્યુમિના-આધારિત છિદ્રાળુ સિરામિક વેક્યુમ ચક
સેન્ટ સેરાનું એલ્યુમિના-આધારિત છિદ્રાળુ ચક 99.6% ઉચ્ચ-શુદ્ધતા Al₂O₃ થી બનેલું છે, જેમાં 30-45% ની નિયંત્રિત ખુલ્લી છિદ્રાળુતા અને 10 થી 50 μm સુધીના એકસમાન છિદ્રનું કદ છે. ગ્રુવ્ડ ચકથી વિપરીત, છિદ્રાળુ સપાટી સમગ્ર વેફર બેકસાઇડ પર વિતરિત શૂન્યાવકાશ પ્રદાન કરે છે, ધારના નિશાનને દૂર કરે છે અને અતિ-પાતળા (≤100 μm) અથવા વિકૃત વેફર્સને હળવી પકડી રાખવા સક્ષમ બનાવે છે. આ સામગ્રી ≥250 MPa ની ફ્લેક્સરલ તાકાત અને હવામાં 400°C સુધી થર્મલ સ્થિરતા પ્રદાન કરે છે.
-
સીવીડી/પીવીડી શાવરહેડ માટે એલ્યુમિના ગેસ ડિસ્ટ્રિબ્યુશન પ્લેટ
સેન્ટ સેરાની ગેસ ડિસ્ટ્રિબ્યુશન પ્લેટ (શાવરહેડ) ઉચ્ચ-શુદ્ધતા 99.8% એલ્યુમિના સિરામિકથી ચોકસાઇ-મશિન કરેલી છે. તેમાં માઇક્રો-હોલ્સ (0.3-1.5 મીમી વ્યાસ) ની શ્રેણી છે જે CVD, PVD, અથવા ALD પ્રક્રિયાઓ દરમિયાન વેફર સપાટી પર સમાન ગેસ પ્રવાહ સુનિશ્ચિત કરે છે. પ્લેટની ઉચ્ચ ડાઇલેક્ટ્રિક શક્તિ (>15×10⁶ V/m) અને પ્લાઝ્મા પ્રતિકાર તેને સેમિકન્ડક્ટર પાતળા-ફિલ્મ ડિપોઝિશન માટે આવશ્યક બનાવે છે.
